• masque pour le visage à base d'argile pour un soin intensif
• réduit les impuretés en cas d'utilisation régulière
• apaise les irritations et minimise les rougeurs
• sans parfum et testé contre les allergies pour une tolérance optimale
• utilisation facile : 1 à 3 fois par semaine

Le masque purifiant Anti Blemish Solutions de Clinique est parfait pour toutes les personnes cherchant à purifier leur peau en douceur. Formulé avec de l'argile, il absorbe l'excès de sébum, nettoie les pores et affine le grain de peau tout en apaisant les irritations, aidant la peau à retrouver son équilibre. Ses propriétés antibactériennes soutiennent le microbiome cutané, rendant la peau plus nette à long terme. La texture onctueuse permet une application uniforme, et la formule pénètre les pores pour dissoudre les impuretés. Enrichie en soins, il maintient l'hydratation de la peau, laissant une sensation de douceur et de fraîcheur. Un teint mat et clair est obtenu sans sécheresse. Utilisé 1 à 3 fois par semaine, il réduit les impuretés sur la durée et rend la peau plus résistante. La formule apaise rougeurs et irritations pour un grain de peau plus uniforme. Testé dermatologiquement, sans parfum, le masque convient aux peaux sensibles, offrant une peau claire et équilibrée quotidiennement.

Appliquer le masque purifiant Anti Blemish Solutions de Clinique sur la peau nettoyée et le laisser agir pendant cinq minutes. Rincer ensuite abondamment à l'eau pour retrouver une sensation de fraîcheur et de pureté. Ce masque convient à tous les types de peau, en particulier à celles qui sont sujettes aux impuretés.

AQUA, KAOLIN, BUTYLENE GLYCOL, MAGNESIUM ALUMINUM SILICATE, SODIUM LAUROYL SARCOSINATE, GLYCERYL STEARATE, PEG-100 STEARATE, GENTIANA LUTEA ROOT EXTRACT, LAMINARIA SACCHARINA EXTRACT, SUCROSE, CHAMOMILLA RECUTITA FLOWER/LEAF/STEM EXTRACT, ALGAE EXTRACT, ALOE BARBADENSIS LEAF POWDER, ACETYL GLUCOSAMINE, INULIN, 1,2-HEXANEDIOL, CAPRYLYL GLYCOL, XANTHAN GUM, DISODIUM EDTA, CHLORPHENESIN, PHENOXYETHANOL, CI 77891.