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    Clinique Anti Blemish Solutions Cleansing Mask, Hauptbild

    Die Clinique Anti Blemish Solutions Cleansing Mask, eine Tonerde-basierte Gesichtsmaske, bietet in nur fünf Minuten eine intensive und sanfte Pflege für ein geschmeidig weiches Hautgefühl. Sie hilft, das Erscheinungsbild von Hautunreinheiten zu reduzieren, ohne die Haut auszutrocknen oder zu reizen.

    Clinique Anti Blemish Solutions Cleansing Mask
    100 ml

    44.90

    44.90 / 100 ml

    20% ab 2 Artikeln

    In Kürze

    Ohne Parabene
    Ohne Parfüm

    Form

    Paste


    Wirkung (Haut)

    beruhigend


    Sind diese Informationen hilfreich für Sie?

    Details


    • Tonerde-basierte Gesichtsmaske für intensive Pflege
    • reduziert Unreinheiten bei regelmässiger Anwendung
    • beruhigt Irritationen und minimiert Rötungen
    • parfümfrei und allergiegetestet für beste Verträglichkeit
    • einfache Anwendung: 1-3 Mal pro Woche

    Die Clinique Anti Blemish Solutions Cleansing Mask ist die ideale Wahl für alle, die ihre Haut intensiv klären und von Unreinheiten befreien möchten, ohne dabei auf sanfte Pflege zu verzichten. Diese hochwirksame Gesichtsmaske setzt auf eine speziell entwickelte Tonerde-Formulierung, die für ihre Fähigkeit bekannt ist, überschüssiges Öl zu absorbieren, verstopfte Poren zu reinigen und das Hautbild sichtbar zu verfeinern. Gleichzeitig bietet sie eine beruhigende und ausgleichende Wirkung, die Irritationen lindert und die Haut in ein frisches, gesundes Gleichgewicht bringt. Dank ihrer antibakteriellen Eigenschaften trägt sie zudem dazu bei, das Hautmikrobiom zu unterstützen und langfristig für ein reineres Hautbild zu sorgen.

    Dank ihrer besonders cremigen Textur lässt sich die Maske mühelos auftragen und gleichmässig verteilen. Während der Einwirkzeit entfaltet die Formel ihre volle Wirkung, indem sie tief in die Poren eindringt, Ablagerungen löst und die Haut von Unreinheiten befreit. Angereichert mit pflegenden Inhaltsstoffen hilft sie zudem, das Feuchtigkeitsgleichgewicht der Haut zu bewahren, sodass sich die Haut nach der Anwendung nicht nur porentief rein, sondern auch angenehm geschmeidig und erfrischt anfühlt. Das Ergebnis ist ein mattierter, klarer Teint, ohne dabei Trockenheit oder ein unangenehmes Spannungsgefühl zu hinterlassen.

    Bei regelmässiger Anwendung, empfohlen 1 bis 3 Mal pro Woche, kann die Maske dazu beitragen, das Auftreten und die Sichtbarkeit von Hautunreinheiten langfristig zu reduzieren. Bestehende Unreinheiten klingen schneller ab, während die Haut widerstandsfähiger gegenüber neuen Unreinheiten wird. Zusätzlich trägt die klärende Formel dazu bei, Rötungen und Irritationen zu beruhigen, was das Hautbild insgesamt ebenmässiger und ausgeglichener erscheinen lässt. Die Haut fühlt sich nach jeder Anwendung frischer, glatter und sichtbar verfeinert an.

    Ein weiterer Vorteil dieser dermatologisch getesteten Maske ist ihre sanfte, aber effektive Reinigungskraft, die die Haut nicht nur von überschüssigem Talg befreit, sondern sie gleichzeitig pflegt und stärkt. Die Formulierung ist frei von Parfum, wurde unter strengen Bedingungen allergiegetestet und eignet sich daher auch für empfindliche Haut. Die Clinique Anti Blemish Solutions Cleansing Mask ist somit ein unverzichtbarer Bestandteil einer durchdachten Hautpflegeroutine - für eine klare, gesunde und ausgeglichene Haut, Tag für Tag.

    Tragen Sie die Clinique Anti Blemish Solutions Cleansing Mask auf die gereinigte Haut auf und lassen Sie sie für fünf Minuten einwirken. Anschliessend gründlich mit Wasser abspülen, um ein frisches und reines Hautgefühl zu erlangen. Geeignet für alle Hauttypen, besonders für solche, die zu Unreinheiten neigen.

    AQUA, KAOLIN, BUTYLENE GLYCOL, MAGNESIUM ALUMINUM SILICATE, SODIUM LAUROYL SARCOSINATE, GLYCERYL STEARATE, PEG-100 STEARATE, GENTIANA LUTEA ROOT EXTRACT, LAMINARIA SACCHARINA EXTRACT, SUCROSE, CHAMOMILLA RECUTITA FLOWER/LEAF/STEM EXTRACT, ALGAE EXTRACT, ALOE BARBADENSIS LEAF POWDER, ACETYL GLUCOSAMINE, INULIN, 1,2-HEXANEDIOL, CAPRYLYL GLYCOL, XANTHAN GUM, DISODIUM EDTA, CHLORPHENESIN, PHENOXYETHANOL, CI 77891.

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    Artikelnummer

    4081969

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